Влияние технологических параметров нанесения многоэлементных ионно-плазменных покрытий на их качество
DOI:
https://doi.org/10.25206/1813-8225-2019-166-9-13Ключевые слова:
ионно-плазменное напыление, многоэлементные покрытия, микротвердость, поверхностная энергия, параметры напыленияАннотация
Изучены технологические параметры нанесения высокоэнтропийных ионноплазменных покрытий на основе стали 12Х18Н10Т, легированной цирконием, медью и алюминием. Установлено, что с увеличением тока дуги испарителя
поверхностная энергия покрытия уменьшается, что объясняется быстрым ростом его толщины, приводящим к увеличению плотности дислокаций в формируемом покрытии. Оптимальное значение тока дуги составляет 90–110 А. Покрытия, полученные при давлении азота Р=10–3 мм рт. ст. и температуре подложки 400 °С, имеют наиболее равномерно распределенную мелкую плотную структуру, минимальное содержание капельной фазы, пор, наплывов, отслоений, наибольшие значения поверхностной энергии и увеличения микротвердости на 30 %.
Скачивания
Опубликован
Как цитировать
Выпуск
Раздел
Лицензия
Неисключительные права на статью передаются журналу в полном соответствии с Лицензией Creative Commons BY-NC-SA 4.0 «Attribution-NonCommercial-ShareAlike» («Атрибуция-Некоммерчески-СохранениеУсловий») 4.0 Всемирная (CC BY-NC-SA 4.0)